挑戦
ある化学処理施設では、無水塩化マグネシウムの製造に高温プロセスが用いられています。プロセス媒体は腐食性が非常に高く、漏洩が発生すると製品が酸化してしまいます。そうなると、下流工程で炭素処理が必要となり、多大なコストと操業の中断を招きます。そのため、わずかな漏洩であっても許容できません。このような環境下では、安全弁を保護し、確実な圧力逃がし機能を維持することが極めて重要です。.
当施設は、バルブの上流側に破裂板アセンブリを設置する豊富な経験を有しています。しかしながら、運転温度が500°F（約260℃）の場合、腐食性媒体と高温の組み合わせにより、シール面からの漏洩リスクが高まります。.
課題
この施設では、信頼性の高い気密シールを維持し、高温下でも安定した性能を発揮できる破裂板ソリューションが求められていました。また、腐食性媒体に耐え、保守チームのリスクを軽減するために効率的な設置が可能なソリューションである必要もありました。.
解決策
同社はLoKr DUOを最適なソリューションとして選定しました。3ピース構造のアセンブリとは異なり、LoKr DUOは2ピース構造のカートリッジ式設計を採用しており、溶接による気密性の高いシールを実現しています。この設計により、従来のアセンブリに比べて漏れに対する保護性能が向上しています。また、ディスクの取り付けが容易になるため、保守担当者が腐食性や毒性のある化学物質にさらされるリスクを軽減できます。.